Skip to Content

Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-BODEN

Dòng ELS-BODEN được thiết kế dành cho những nhà đổi mới đang thúc đẩy giới hạn của công nghệ tạo mẫu siêu mịn. Với vùng ghi lên đến 300 mm vuông, các hệ thống EBL này có thể xử lý từ mẫu nhỏ đến wafer 300 mm hoàn chỉnhmặt nạ 9 inch. Một bộ đầy đủ các bộ nạp tự động (autoloaders) hỗ trợ quy trình tự động hóa liền mạch cho nhiều loại quy trình làm việc khác nhau. Các mức điện áp gia tốc sẵn có là 50, 100, 125 và 150 kV – có thể lựa chọn để phù hợp với nhu cầu ứng dụng của bạn.

0 ₫ 0 ₫

  • Thương hiệu - Elionix

Tính năng: 

Dòng sản phẩm 8” và 12”

Là hệ thống đầu tiên trên thế giới có khả năng phơi hoàn chỉnh trên wafer 12 inch. Hỗ trợ nhiều kích thước từ mẫu nhỏ (thường dùng trong nghiên cứu & phát triển) đến wafer 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 và 12 inch, cũng như phôi mặt nạ (mask blanks) kích thước 6025 và 9025.

Hệ thống nạp tự động

Tùy theo nhu cầu sử dụng, hệ thống cung cấp:

  • Autoloader đơn, phù hợp cho nghiên cứu và phát triển (R&D)

  • Autoloader đa khay, cho sản xuất quy mô nhỏ đến vừa

  • Robot loader cho các yêu cầu tự động hóa cao hơn

Phần mềm GUI đơn giản, trực quan

Phần mềm mới có tên “elms” được tích hợp tiêu chuẩn với hệ thống quang khắc.
Các chức năng như chuyển đổi file CAD, điều chỉnh chùm tia, phơi, và quan sát SEM được thiết kế tách biệt, giúp chương trình dễ sử dụng và nâng cao hiệu quả quy trình làm việc.

Tính năng quản lý tài khoản cho phép phân quyền truy cập khác nhau tùy theo người dùng.

Specifications

Thương hiệu Elionix